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产品中心
Product Center
IC级化学品主要涵盖了电子级磷酸、硫酸、双氧水、蚀刻液等20余种产品,广泛应用于半导体制造过程中的蚀刻、清洗等工序。经多年深耕发展,公司已逐渐发展为国产化规模最大的电子化学品制造企业之一。
产品类别

细分

产品名称

主要成分

主要应用领域

具体用途

通用湿电子化学品
单酸类

电子级磷酸

H3PO4集成电路、显示面板

主要用于集成电路、显示面板制造过程的蚀刻等工艺

电子级硫酸

H2SO4集成电路、显示面板

主要用于集成电路、显示面板制造过程的蚀刻、清洗等工艺

其他类

电子级双氧水

H2O2集成电路主要用于集成电路制造过程的清洗、蚀刻等工艺
功能湿电子化学品
蚀刻液

硅蚀刻液

H3PO4H2SO4HNO3HFNH4F

集成电路

主要用于减薄、打毛、多晶硅蚀刻、氧化硅蚀刻等工

金属蚀刻液

H3PO4H2SO4HNO3HFCH3COOHH2O2I2KI

集成电路、显示面板

主要用于金属钨、铝、铜、钴、镍、银、金、钛等结构层的蚀刻工艺

清洗剂NMPPGMEAPGME、环戊酮集成电路主要用于硅晶圆非金属膜层清洗或去除
显影液

KOH

集成电路、显示面板

主要用于显影工艺,用于去除曝光后的光刻胶

薄膜液

DMSO MEA NMP

集成电路、显示面板

主要用于光刻胶的剥离和清洗工

再生剂按需定制集成电路、显示面板

主要用于特殊工序制作不达标时返工工艺

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